टाइटेनियम अपने उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध के लिए जाना जाता है। हालांकि टाइटेनियम के लिए थर्मोडायनामिक डेटा से पता चलता है कि यह एक थर्मोडायनामिक रूप से बहुत अस्थिर धातु है, टाइटेनियम में वास्तव में उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध है।
यदि टाइटेनियम ti 2+ बनाने के लिए भंग हो सकता है, तो इसकी मानक इलेक्ट्रोड क्षमता बहुत नकारात्मक होगी (-1। 63V)। हालांकि, टाइटेनियम की सतह को हमेशा पास किए गए टाइटेनियम की एक ऑक्साइड फिल्म के साथ कवर किया जाता है, जो सकारात्मक मूल्यों की ओर टाइटेनियम की स्थिर क्षमता को लगातार स्थानांतरित करता है। उदाहरण के लिए, 25 डिग्री पर समुद्री जल में, टाइटेनियम की स्थिर क्षमता +0। 09V के बारे में है।
टाइटेनियम के लिए इलेक्ट्रोड प्रतिक्रिया संभावित डेटा से संकेत मिलता है कि इसकी सतह बहुत प्रतिक्रियाशील है, लेकिन आमतौर पर एक ऑक्साइड फिल्म के साथ कवर किया जाता है। यह ऑक्साइड फिल्म स्वाभाविक रूप से हवा में उत्पन्न होती है और इसे स्थिरता, मजबूत आसंजन और सुरक्षा की विशेषता होती है, जो टाइटेनियम के उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध को निर्धारित करने में महत्वपूर्ण कारक हैं। सैद्धांतिक रूप से, सुरक्षात्मक ऑक्साइड फिल्म का पिलिंग/बेडवर्थ अनुपात 1 से अधिक होना चाहिए। टाइटेनियम का पी/बी अनुपात ऑक्साइड फिल्म की संरचना और संरचना के आधार पर 1 और 2.5 के बीच है, जो टाइटेनियम की ऑक्साइड फिल्म को पूरी तरह से धातु की सतह को कवर करने और एक अच्छी सुरक्षात्मक भूमिका निभाने में सक्षम बनाता है।
जब टाइटेनियम की सतह को वातावरण या जलीय घोल के संपर्क में लाया जाता है, तो एक नई ऑक्साइड फिल्म तुरंत उत्पन्न होती है। उदाहरण के लिए, कमरे के तापमान के वातावरण में, ऑक्साइड फिल्म की मोटाई लगभग 1.2 ~ 1.6nm और समय के साथ गाढ़ा होती है। 70 दिनों के बाद, यह स्वाभाविक रूप से 5nm तक मोटा हो जाता है; 545 दिनों के बाद, यह धीरे -धीरे 8 ~ 9nm तक बढ़ जाता है। कृत्रिम रूप से मजबूत ऑक्सीकरण की स्थिति (जैसे, हीटिंग, ऑक्सीकरण एजेंटों का उपयोग या एनोडिक ऑक्सीकरण, आदि) सतह पर ऑक्साइड फिल्म के विकास में तेजी ला सकता है और एक मोटी ऑक्साइड फिल्म प्राप्त कर सकता है, इस प्रकार टाइटेनियम के जंग प्रतिरोध में सुधार होता है। इसलिए, एनोडिक ऑक्सीकरण और थर्मल ऑक्सीकरण द्वारा उत्पन्न ऑक्साइड फिल्म टाइटेनियम के संक्षारण प्रतिरोध में काफी सुधार करेगी।
टाइटेनियम की ऑक्साइड फिल्म (थर्मल ऑक्सीकरण फिल्म या एनोडिक ऑक्सीकरण फिल्म सहित) आमतौर पर एक ही संरचना नहीं है, और इसके ऑक्साइड की संरचना और संरचना पीढ़ी की स्थितियों के साथ भिन्न होती है। सामान्य तौर पर, Tio, ऑक्साइड फिल्म और पर्यावरण के बीच इंटरफेस में मौजूद हो सकता है, हालांकि, TIO ऑक्साइड फिल्म और धातु के बीच इंटरफ़ेस पर हावी हो सकता है। बीच में, विभिन्न वैलेंस राज्यों, या यहां तक कि गैर-रासायनिक समकक्ष ऑक्साइड के साथ संक्रमण परतें हो सकती हैं, जो बताती है कि टाइटेनियम की ऑक्साइड फिल्म में एक बहुपरत संरचना है। इस ऑक्साइड फिल्म की पीढ़ी की प्रक्रिया के लिए, इसे केवल टाइटेनियम और ऑक्सीजन के बीच प्रत्यक्ष प्रतिक्रिया के परिणाम के रूप में नहीं समझा जा सकता है।
